Содержание
- Введение 1
- Физические методы формирования тонких пленок 2
- - Испарение и конденсация 2.1
- - Магнетронное распыление 2.2
- - Импульсное лазерное осаждение 2.3
- Химические методы формирования тонких пленок 3
- - Химическое осаждение из газовой фазы (CVD) 3.1
- - Атомно-слоевое осаждение (ALD) 3.2
- - Золь-гель метод 3.3
- Характеризация тонких пленок 4
- - Рентгеновская дифракция (XRD) 4.1
- - Микроскопия поверхности 4.2
- - Спектроскопия электронных состояний 4.3
- Заключение 5
- Список литературы 6