Содержание
- Введение 1
- Теоретические основы процесса осаждения 2
- - Термодинамика и кинетика осаждения 2.1
- - Механизмы зарождения и роста кристаллов 2.2
- - Влияние растворимости и пересыщения 2.3
- Методы осаждения 3
- - Химическое осаждение 3.1
- - Физическое осаждение 3.2
- - Электрохимическое осаждение 3.3
- Факторы, влияющие на процесс осаждения 4
- - Влияние температуры и pH 4.1
- - Влияние концентрации реагентов и перемешивания 4.2
- - Влияние добавок и подложек 4.3
- Практическое применение процесса осаждения 5
- - Осаждение в микроэлектронике 5.1
- - Осаждение покрытий 5.2
- - Осаждение в материаловедении 5.3
- Заключение 6
- Список литературы 7