Содержание
- Введение 1
- Теоретические основы ионного распыления 2
- - Принципы формирования плазмы 2.1
- - Механизмы распыления материала мишени 2.2
- - Влияние параметров плазмы на эффективность распыления 2.3
- Параметры катодного распыления и их оптимизация 3
- - Влияние давления рабочего газа 3.1
- - Оптимизация мощности разряда 3.2
- - Роль температуры мишени в процессе распыления 3.3
- Методы контроля процессов ионного распыления 4
- - Оптическая эмиссионная спектроскопия 4.1
- - Масс-спектрометрия в контроле распылительного процесса 4.2
- - Методы контроля толщины и состава покрытий 4.3
- Заключение 5
- Список литературы 6