Содержание
- Введение 1
- Теоретические основы вакуумного осаждения 2
- - Физическое осаждение из паровой фазы (PVD) 2.1
- - Химическое осаждение из паровой фазы (CVD) 2.2
- - Влияние параметров процесса на свойства пленок 2.3
- Технологии вакуумного осаждения 3
- - Оборудование для PVD 3.1
- - Оборудование для CVD 3.2
- - Технологические особенности различных методов осаждения 3.3
- Применение вакуумного осаждения 4
- - Применение в электронике 4.1
- - Применение в оптике 4.2
- - Применение в машиностроении 4.3
- Примеры практических исследований 5
- - Исследование PVD покрытий для инструментов 5.1
- - Исследование CVD покрытий для оптики 5.2
- - Сравнительный анализ разных методов осаждения 5.3
- Заключение 6
- Список литературы 7